Rechnerchip im Auflicht Hell-, Dunkel-Feld und DIC

[wilfried48]

von

Moderne Chips werden mit Röntgenlithos hergestellt wenn ich als Rechnerexperte   das richtig im Kopf habe.
Also ganz kurze Wellenlänge dadurch höchste Auflösung.

Lieber Klaus,

das war mal eine Illusion in die viel Forschungsgeld geflossen ist und die auch durch anderen "Experten" falsch eingeschätzt wurde.

Auch hier regiert nach wie vor das Licht und wird es aller Vorraussicht nach weiterhin tun.

Die derzeit produzierten kleinsten Strukturen in den modernen Chips mit < 40 nm werden mit 193 nm DUV Wellenlänge (ArF Excimerlaser) und einem Zeiss WasserImmersionsobjektiv Starlith 1950i belichtet.

Und die ersten Prototypen von 13,5 nm EUV Belichtungsobjektiven für Strukturen kleiner 30nm sind auch schon ausgeliefert worden. Das extrem kurzwellige Licht mit 13,5 nm wird über
Plasmaquellen erzeugt.

Hallo Jorrit,
wieso sollen die derzeitigen Mikrochips, die mit 193 nm Lichtimmersion belichtet sind, nich acuh mit Lichtmikroskopie inspiziert werden können. Man muss eben nur mit 193 nm und Wasserimmersionsobjektiven und entsprechenden UV Detektoren draufschauen (Physik bleibt Physik) ? Das sind natürlich keine gewöhnlichen Lichtmikroskope mehr, aber die hierfür speziell entwickelten Halbleiterinspektionssysteme können dies.

viele Grüsse
Wilfried

[koestlfr]

Hallo Peter,

das habe ich nicht bedacht - du hast Recht, die meisten haben ihren Schwerpunkt bei 950nm und das ist zu knapp!

Wie heisst es: ein Diagramm sagt mehr als 1000Worte!

Hallo Wilfried!

Danke für die spannende Erklärung!

Liebe Grüße
Franz

[the_playstation]

von

Moderne Chips werden mit Röntgenlithos hergestellt wenn ich als Rechnerexperte  das richtig im Kopf habe.
Also ganz kurze Wellenlänge dadurch höchste Auflösung.

Lieber Klaus,

das war mal eine Illusion in die viel Forschungsgeld geflossen ist und die auch anderen "Experten" falsch eingeschätzt wurde.

Auch hier regiert nach wie vor das Licht und wird es aller vorraussicht nach weiterhin tun.

Die derzeit produzierten kleinsten Strukturen in den modernen Chips mit < 40 nm werden mit 193 nm DUV Wellenlänge (ArF Excimerlaser) und einem Zeiss WasserImmersionsobjektiv Starlith 1950i belichtet.

Und die ersten Prototypen von 13,5 nm EUV Belichtungsobjektiven für Strukturen kleiner 30nm sind auch schon ausgeliefert worden. Das extrem kurzwellige Licht mit 13,5 nm wird über
Plasmaquellen erzeugt.

Hallo Jorrit,
wieso sollen die derzeitigen Mikrochips, die mit 193 nm Lichtimmersion belichtet sind, nich acuh mit Lichtmikroskopie inspiziert werden können. Man muss eben nur mit 193 nm und Wasserimmersionmikroskopen und entsprechenden UV Detektoren draufschauen (Physik bleibt Physik) ? Das sind natürlich keine gewöhnlichen Lichtmikroskope mehr, aber die hierfür speziell entwickelten Halbleiterinspektionssysteme können dies.

viele Grüsse
Wilfried

Hallo Wilfried

Ich konnte / kann mir immer noch nicht vorstellen, wie man z.B. 20nm Strukturen mit einer 193nm Wellenlänge erzeugt. ( , grübel )
Ist das nicht eine Art Paradoxon? Die Wellenlänge ist doch dann ca. 10x größer als die zu erzeugende Struktur.
Daher auch meine Frage.

Liebe Grüße Jorrit.

[wilfried48]

Hallo Jorrit,

nein bei 20 nm Stukturen geht das nicht mehr, da braucht man dann EUV Lithographie.

Aber 40 nm Strukturen kann man mit 193 nm noch belichten. 40 nm Strukturbreite bedeutet eine Gitterperiode von 80 nm und das ist nur etwas weniger als die halbe Wellenlänge.
Dann gibt es noch den Trick mit sogenannten Phasenmasken zur Kontraststeigerung mit denen man noch etwas Auflösung gewinnnen kann.
Die Erklärung dazu findest du hier:  http://de.wikipedia.org/wiki/Fotomaske

viele Grüsse
Wilfried

[the_playstation]

Danke für den Link Wilfried.

Jetzt bin Ich etwas schlauer.
Wenn Ich da an den alten Werbefilm von MOS Technologies aus den 80-zigern denke.

Liebe Grüße Jorrit.